レーザーチラーの選択スキーム

レーザーチラーは、切断機、マーキング機、彫刻機などのレーザー機器の CO2 レーザーガラス管、半導体レーザー、またはファイバーレーザーを冷却するためによく使用されます。

レーザー装置を長期間使用すると、レーザー発生器は継続的に熱を発生し、温度が継続的に上昇します。温度が高すぎると、レーザー発生器の通常の動作が影響を受けます。そのため、水循環冷却と温度制御にはレーザーチラーが必要となります。

レーザー冷却装置は、レーザー業界の産業用冷却装置をカスタマイズしたアプリケーションです。レーザーチラーは、主にレーザー装置のレーザー発振器を水循環により冷却し、レーザー発振器の温度を制御することで、レーザー発振器を長期間維持できるようにします。通常の仕事。

レーザー用チラーのタイプを選択する際は、水冷温度、圧力、流量などのプロセス値を監視でき、レーザーと連動した保護機能を備えた高精度チラーを選択するようにしてください。
冷却装置の内部安全保護と遠隔制御は、レーザーの安全な動作に密接に関係しています。
レーザーチラーのタイプ:
レーザー発生器の種類に応じて、レーザーチラーは、炭酸ガスガラスレーザーチラー、二酸化炭素金属高周波管レーザーチラー、半導体サイドポンプレーザーチラー、半導体エンドポンプレーザーチラー、YAGレーザーチラー、ファイバーレーザーチラーに分類できます。 、紫外線レーザーチラー。
チラーの冷却能力は、レーザーチラーを選択するための重要な指標です。ユーザーは、レーザーのさまざまな出力に応じてレーザーの熱を計算し、適切なチラーを選択できます。

レーザーのレーザーパワーに応じて、レーザーの発熱量を計算できます。
計算式：P heat = P laser * (1-η)/ η
P heat: レーザーによって生成される熱量 (W) を表します。
P laser: レーザー出力パワー (W) を表します。
η: レーザーの光電変換率 (%)。レーザーの種類に応じて決定されます。
光電変換率ηの値の範囲

炭酸ガスレーザー：8～10％

ランプポンプレーザー: 2-3%

ダイオード励起レーザー: 30-40%

ファイバーレーザー: 30-40%

例：炭酸ガスレーザーの出力は800W、光電変換率は8.5%

P 熱 = 800*(1-8.5%) / 8.5% = 8612W

産業用チラーの冷却能力は発熱量以上である必要があり、ロングフロー機器で製造された冷却能力10KWの産業用チラーLX-10Kが使用できます。

Jiusheng 産業用チラー シリーズ:
5KW、10KW、20KW、30KW、50KWおよび他のシリーズモデルの冷却能力、正確な温度制御、包括的な保護対策を含むマンマシンインターフェースは、温度、圧力、流量およびその他のプロセス測定を記録できるカラータッチスクリーンを採用しています。データをリアルタイムで保存し、内部データを U ディスクにエクスポートして、リモート コントロール インターフェイスと 485 通信インターフェイスを提供できる、ハイエンド レーザー チラーです。